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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:日立熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 產(chǎn)品廠商:日立(Hitachi)
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簡(jiǎn)單介紹:
日立熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000分辨率1.2 nm @ 30 kV,可選配低真空模式,真空范圍: 10 - 300 Pa,可選配5分割半導(dǎo)體探測(cè)器 (PD-BSD)、能譜儀 (EDS)、波譜儀 (WDS)、背散射電子衍射探測(cè)器 (EBSD)等多種附件。
詳情介紹:
日立熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000特點(diǎn):
▲高性能電子光學(xué)系統(tǒng)
二次電子分辨率: 頂位二次電子探測(cè)器(2.0 nm at 1kV)*
高靈敏度: PD-BSD, 強(qiáng)的低加速電壓性能,低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于微區(qū)分析
▲性能優(yōu)良
壓力可變: 具有優(yōu)的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測(cè)器(UVD)*
開(kāi)倉(cāng)室快速簡(jiǎn)單換樣(大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等
*選配附件

日立熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU5000規(guī)格:

項(xiàng)目

內(nèi)容

分辨率

1.2 nm @ 30 kV
3.0 nm @ 1 kV
2.0 nm @ 1 kV 減速模式*1
3.0 nm @ 15 kV 低真空模式*2

放大倍率

10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素)
30 - 1,500,000× (1,280 × 960 像素)

電子光學(xué)系統(tǒng)

電子槍

ZrO /W 肖特基式電子槍

加速電壓

0.5 - 30 kV (0.1 kV 步進(jìn))

著陸電壓

減速模式: 0.1 - 2.0 kV 1

大束流

> 200 nA

探測(cè)器

低位二次電子探測(cè)器

低真空模式*2

真空范圍: 10 - 300 Pa

馬達(dá)臺(tái)

馬達(dá)臺(tái)控制

5 - 軸自動(dòng) (優(yōu)中心)

可動(dòng)范圍

X0100mm
Y050mm
Z365mm
T-2090°
R360°

大樣品尺寸

大直徑: 200 mm
大高度: 80 mm

選配探測(cè)器

高分辨率頂位二次電子探測(cè)器*1

高靈敏度低真空探測(cè)器 (UVD)

5分割半導(dǎo)體探測(cè)器 (PD-BSD)*3

能譜儀 (EDS)

波譜儀 (WDS)

背散射電子衍射探測(cè)器 (EBSD)

*1:減速功能(包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器)

*2:低真空功能(包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器)

*3:空壓機(jī)(本地采購(gòu))

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